フォトソリグラフィはマスクを作成することにより、最大直径200mmの基材上に高解像度かつ高再現性で、光学薄膜蒸着の位置づけ、TCO層ネットワーク、キャリブレーションプレートの作成を可能にします…。

これにより、完全な光学部品の実現が可能になります。