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真空蒸着/PVD-PACVD

物理蒸着と化学蒸着 (PVDとPACVD) は、処理する部品の表面に材料を蒸着させる環境に優しい技術です。

これらの蒸着法により、以下の特性をもつコーティングが得られます。
- 数ナノメートルから数十ミクロンまでの厚み
- 1000~4000Hvの硬さ

これらの蒸着法は、コーティング材料を選択することで、処理部品に以下の特性を与えます。
- トライボロジー特性: 極めて小さい摩擦係数
- 機械特性: 極めて高い硬さ
- 電磁シールド特性
- 光学特性
- 導電特性
- 抗菌特性
- 装飾特性
- その他

このプロセスは、プラズマを生成する真空容器内で行われます。
HEF グループは、主に以下に述べる3つのプラズマ生成方法を使用し、高品質なコーティングを形成しています。

- PEMS™
PEMS®技術により、トライボロジー用途の非常に緻密な膜をコーティング出来ます。HEF グループは、このプロセスを、なかでも摩擦係数の小さい、硬いあるいは極めて硬いコーティング層形成のために使用しています。また、PEMS™ 技術は用途に応じてコーティング層の硬さ、密度および強度を変えることができます。

- CAM™ 
最先端の真空技術であるCAM™技術は、極めて低い温度で非常に摩擦係数が小さく硬いコーティングを可能にする、まさに進歩と呼べる技術です。

- M‐ARC™ 
この方法は、従来のアーク蒸着法を進化させたものですが、一般的にこの種のコーティングに付き物の滴を大幅に減らしています。

これらのプロセスに関する豊富な知識に基づいて、HEF グループは、非常に幅広い薄膜応用分野を対象とするコーティングシリーズを開発しています。
- 摩擦および摩耗の減少 : CERTESS™ CARBON
- 機械部品の寿命の延長 : CERTESS™ NITRO
- ポリマー上の電磁シールド : PROCEM™
- アルミ合金の腐食防止 :CORRALU™ V
- エロージョン防止 : CERTESS™ BLAST
- 他の表面特性 : 特に大寸法部品を使った光学用途、装飾用途